– 富士公司今天宣布，它将安装CMP Slurries*1的新生产设施，高级半导体材料，并在其位于比利时的生产地点增强现有与光刻相关材料*2的设施。在欧洲，对支持工厂制造工艺DX的汽车半导体和工业半导体的需求有望增长，富士夫的投资约为40亿日元（约2500万欧元），以扩大其比利时现场的生产能力，即其比利时地点的生产能力位于安特卫普的Zwijndrecht。
在高速，高容量通信的驱动下，通过5G/6G，自主驾驶的扩展以及AI的扩展和元元的传播，对半导体的需求有望增加，并且预计其性能也将提高。 Fujifilm正在对半导体材料业务进行积极的增长投资。在全球范围内，富士计划在2024财年至2026年的三年中，包括研发和资本投资，包括研究和发展和资本投资，总共投资1700亿日元。最近的投资包括增强韩国Shizuoka和Pyeongtaek的高级抗拒的开发，生产和质量评估功能，以及在日本库玛莫托网站的CMP Slurry生产设施的扩展。
这次，为了扩大富士夫人的生产能力，可以为欧洲不断增长的半导体市场提供生产能力，富士电子材料（欧洲）NV，富士夫的半导体材料子公司NV的资本投资约为40亿日元（约2500万欧元）。它引入了CMP浆液的新生产设施，该设施用于晚期半导体，预计将显示高13％*3的高年增长率。除了在美国亚利桑那州，美国，欣旺，康南，韩国和库伊奥镇的CMP浆料生产地点外，该网络还将通过比利时的新生产能力来扩展该网络。这将创建一个由六个位置组成的全球生产网络，确保CMP浆液的供应更稳定。此外，富士术将增强比利时现场光刻过程中开发人员的生产设施。这将有助于该公司满足欧洲对汽车和工业半导体的日益增长的需求，并响应其客户的高质量需求。
新的CMP浆料生产设施和增强的开发人员生产设施计划在2026年春季开始运营。
Fujifilm提供用于晶片加工中的半导体材料，用于在半导体制造中发布加工，包括光倍师*4，与光刻相关的材料，CMP浆液，CMP浆液，CMP后清洁剂*5，薄膜化学品*6，Polyimides*7，Polyimides*7和高纯度工艺化学物质化学物质化学物质化学物质化学物质*8，以及Wave Control Mosaic™*9，其中包括用于图像传感器的颜色过滤材料。除了其庞大的产品阵容涵盖了几乎整个半导体制造过程的范围，从领先到传统半导体，富士还致力于解决客户的问题，并通过提供一站式解决方案来利用一站式解决方案来促进一体式的解决方案它的全球供应结构和高级研发功能。
资本投资概述
比利时网站概述
位于比利时安特卫普的Zwijndrecht的生产地点
- *1 A的专有配方，其中包含均匀平面化半导体表面的磨料，其中包含电线和变化硬度的绝缘膜的混合物。
- *2在半导体制造的光刻过程中使用的开发解决方案，清洁剂和其他材料
- *3美国研究公司“ Linx”的电子材料预测报告2023
- *4在半导体制造过程中绘制电路模式时用于涂层晶片基板的材料
- *5用CMP浆料抛光后使用的清洁剂去除颗粒，微小的金属碎片和有机残留物，同时保护金属表面
- *6用于形成低射线绝缘膜的材料
- *7具有耐热性和绝缘特性的材料，用于形成半导体的保护膜和重新布线层
- *8在清洁和干燥过程中使用的高纯度化学物质。在半导体制造的清洁和干燥阶段，采用化学物质去除污染物，并在蚀刻过程中消除金属和油。
- *9一般术语指的是一组功能材料，用于控制各种波长的电磁光波，包括用于制造图像传感器的颜色过滤器的光敏色材料，例如CMOS传感器，用于数码相机和智能手机。 Wave Control Mosaic是富士公司的注册商标或商标。
- *10 Fujifilm目前正在增强聚酰亚胺和光刻相关材料的生产设施，以及研究，开发和质量保证设施。一些生产设施已经开始运营，研发和质量保证设施计划在2026年上半年开始运营。
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资料来源：https：//news.marketersmedia.com/fujifilm-to-invest-4-bill-belgium-for-for-for-cmp-slurries-and-photolitaghithosements与相关的材料/891522599
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