富士胶片推出

加强日本和韩国的 EUV 光刻材料生产东京 - 2024 年 10 月 29 日 — 富士胶片公司宣布销售用于先进半导体制造工艺的 EUV*1 光刻的负性光刻胶和显影剂。 富士胶片是世界上第一家开发并商业化 NTI 工艺*2（一种广泛采用的负片显影工艺）的公司，并在使用 ArF 光刻技术*3…